জিংক ইলেক্ট্রোপ্লেটিং কেমিক্যালস সিয়ানাইড জিংক প্ল্যাটিং প্রসেস জন্য; JZ-1

প্রক্রিয়া প্রবাহ

Degrease alkaline chemically → wash with hot water → remove the rust with acid → wash → wash with running cool water → activate (hydrochloric acid) → wash → plate zinc → recycle → wash → neutralize (nitric acid 2-3%) → passivate → dry and solidify (60-80℃)

উপাদান এবং শারীরিক পরামিতি

উপাদান এবং শারীরিক পরামিতি সিয়ানাইড মুক্ত কম সিয়ানাইড

উপাদানঃ জিংক অক্সাইড g/l 9-12 7-12

সোডিয়াম সায়ানাইড g/l ---- 1-8

সোডিয়াম হাইড্রক্সাইড g/l 100-130 100-120

জেজেড-১ ব্রাইটনার জি/এল ৪-৮ ৪-৮

সায়ানাইড অ্যান্টিডট ((প্রয়োজনীয় নয়) 4 3-5

অপারেশন অবস্থাঃ

তাপমাত্রা 5-40°C

এস কেঃ এস এ ১ঃ1.২-২

অ্যানোড ০# জিংক প্লেট

র্যাক প্লাটিংঃ Dk 0.5-4 A/dm2

ক্যাথোড সরান 8-12 বার / মিনিট

ব্যারেল প্লাটিংঃ Dk 0.5-3 A/dm2

ব্যারেল রোটেশন রেট 6-8 বার/মিনিট

আপনার যদি আরও তথ্যের প্রয়োজন হয়, তাহলে আমাদের সাথে যোগাযোগ করুন। অথবা আপনি ক্লিক করতে পারেনএখানেডকুমেন্ট ডাউনলোড করতে।