সরাসরি অ্যাসিড কপার প্লাটিং প্রক্রিয়াস্টিলের সাবস্ট্র্যাটে সরাসরি অ্যাসিড কপার প্লেটিং; উজ্জ্বল কপার প্লেটিং
FI-ZL001
সরাসরি অ্যাসিড কপার প্লাটিং প্রক্রিয়া
বৈশিষ্ট্য
• এটি ইস্পাত এবং লোহার সাবস্ট্র্যাটে সায়ানাইড মুক্ত অ্যাসিড তামা লেপ, বিশেষ করে অবিচ্ছিন্ন লেপ জন্য উপযুক্ত।
• এটি অর্ধ-উজ্জ্বল নিকেল বা ওয়াট নিকেল বা সায়ানাইড ক্ষারীয় তামার প্লাস্টিকের পরিবর্তে বেস স্তর হতে পারে।
• তামার লেপ স্তর বেধ 200μm বেশি পৌঁছাতে পারে।
• এতে সায়ানাইড নেই, তাই বর্জ্য জল পরিষ্কার করা সহজ এবং এতে পরিবেশের জন্য কম দূষণ হয়।
• স্নানের রক্ষণাবেক্ষণ সহজ এবং সেবা জীবন দীর্ঘ।
• উচ্চ গতির তামা plating, উচ্চ বর্তমান দক্ষতা, এবং ভাল গভীর plating ক্ষমতা, বিশেষ করে রোল রোল বড় বর্তমান উচ্চ গতির তামা plating জন্য উপযুক্ত
অপারেশন শর্তাবলী
| অপারেশন শর্তাবলী | পরিসীমা (র্যাক প্লাটিং) | স্নানের মেকআপ |
| কপার সালফেট ((CuSO4·6H2O) | ১০০-১৫০ গ্রাম/লিটার | ১০০ গ্রাম/লিটার |
| সালফিউরিক এসিড ((H2SO4) | ১০০-১৫০ গ্রাম/লিটার | ৭০ গ্রাম/লিটার |
| এ | ৫৫.২৫ মিলি/লিটার | ২৫ মিলি/লিটার |
| বি | ৫০-১০০ মিলি/লিটার | ৫০ মিলি/লিটার |
| সি | 50 ~ 100 মিলি/লিটার | ৫০ মিলি/লিটার |
| তাপমাত্রা | ২০-৪০°সি | ৩০°সি |
| ক্যাথোড বর্তমান ঘনত্ব | 1 ~ 10A/dm2 | 3A/dm2 |
| ফিল্টার | ক্রমাগত পরিস্রাবণ | |
| মিশ্রিত করুন | ক্যাথোড স্লাইকিং বা বায়ু মিশ্রণ | |
| অ্যানোড | ফসফর তামা | |